描述
oblf的VEOS基于半导体的检测器系统具有分析性能，包括实验室光谱仪所需的光谱分辨率，并且与建立的基于光电倍增管的系统一样好。全新的光电探测器技术专为火花发射光谱而开发。
保证结果
光敏探测器的设计，其特征在于传统系统中发现的探测器的100倍，特别适用于对发射光谱的要求。结果是第一设备，以提供最佳的光谱灵敏度和光谱分辨率以及具有创新设计的最佳组合，这既保证了奥尔法众所周知的质量和最大的使用灵活性。
短期分析时间
数字GDS III激励会产生短的分析时间，并且可以为任何给定的应用程序生成优化的火花放电。
免费维护
在不必使主要系统变化的情况下，可以轻松进行分析功能的后续扩展。与所有斜光谱仪一样，Veos利用免维护的数字GDS III激励。由于Oblf的专利自动脉冲清洁系统，优化的火花支架只需要非常不频繁的维护，并且可以以低成本运行。
易于操作
Veos型号采用新的操作员友好的住房。既易于操作，结构紧凑，实心设计，光谱仪高度适用于生产环境，还适用于货物收据和材料控制目的以及具有不同分析任务的测试实验室。
特征
- 完全灵活包含所有分析任务
- 易于伸展的功能
- 最新，专门开发的探测器技术
- 在检测极限，精度，稳定性方面具有出色的性能
- 用于重型环境的强大设计
- 最全面的多矩阵应用程序选项，没有关于选择分析元素的任何限制
- 精确地检测N和碳痕迹（ULC）
OES维护和校准：